近日，据国际知名硬件资讯网站Tom"s Hardware报道，日本高端半导体生产商Rapidus的首席执行官小池淳义，在一场公开访谈中透露了公司的未来规划。他提到，Rapidus打算在其北海道千岁市的创新集成制造工厂IIM-1，以及未来的IIM-2，总共部署10台极紫外（EUV）光刻机。然而，关于这些光刻机的具体安装时间表，小池淳义并未透露更多细节。
回顾去年12月，Rapidus已经采购了ASML公司的“TWINSCAN NXE:3800E”EUV光刻机系统。但对于是否还会引入ASML的其他型号光刻设备，目前尚未有确切消息。
Rapidus此前曾宣布与美国半导体巨头博通（Broadcom）携手，共同推进2纳米先进芯片的量产进程，并计划在今年6月向博通提供试产芯片。这一合作不仅彰显了Rapidus的技术实力，也为其在未来的半导体市场中赢得了重要的一席之地。
除了博通之外，Rapidus还接到了另一笔重要订单。Preferred Networks已委托Rapidus代工2纳米芯片，用于生成式人工智能处理。这一合作不仅拓宽了Rapidus的业务范围，也为其在AI芯片领域的发展奠定了坚实基础。据消息人士透露，Rapidus目前正与30至40家企业就代工业务进行洽谈，旨在承接定制化的少量多品种半导体订单。这一战略定位与台积电的大规模生产模式形成鲜明对比，为Rapidus在半导体市场中开辟了一条独特的发展道路。
Rapidus的这些举措不仅展示了其在半导体制造领域的雄心壮志，也预示着未来半导体市场格局的潜在变化。随着技术的不断进步和市场的日益多元化，Rapidus有望在全球半导体产业中发挥越来越重要的作用。
